电规总院发布中长期战略规划纲要

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图4a展示了采用多金属氧酸盐衍生的金属氧化物刻蚀，划纲可以得到面内多孔石墨烯材料，石墨烯片层上的孔径约为20–50nm(图4b)。图2以单分散胶体微球作为模板，电规采用反应离子刻蚀工艺构造胶体微球之间的孔隙。

总院中长图1为通过自下而上的有机合成法制备纳米多孔石墨烯的示意图。最后，发布通过这些石墨烯纳米带的脱氢交叉耦合，制备出孔径约为1nm的多孔石墨烯。